
国家知识产权局信息显示,中钢天源股份有限公司申请一项名为“一种降低钕铁硼磁体杂质含量的制备工艺”的专利,公开号CN121528731A,申请日期为2025年11月。
专利摘要显示,本发明公开了一种降低钕铁硼磁体杂质含量的制备工艺,属于磁性材料加工的技术领域,本发明基于氢破、气流磨制粉工艺,在氢破过程中,经吸氢饱和状态下向氢破炉中通入氮气,通过粉料重量、氮气流量来控制最终氮含量,使得粗破碎的粉料提前氮化形成一层氮化壳层,该氮化壳层具有较强的钝化作用,在后续气流磨过程中对粉料有一定的防护作用,减少了粉料与碳、氧、氮的进一步反应,从而有效降低整体碳、氧、氮总量,改善了烧结过程的产品致密化程度,提升产品剩磁。在粉料表层生成氮化壳层,该氮化壳层具有高熔点与致密结构,能够在后续烧结过程中起到抑制晶粒生长的作用,进而提升整个磁体材料的矫顽力。
天眼查资料显示,中钢天源股份有限公司,成立于2002年,位于马鞍山市,是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本75388.3706万人民币。通过天眼查大数据分析,中钢天源股份有限公司共对外投资了14家企业,参与招投标项目2770次,财产线索方面有商标信息3条,专利信息361条,此外企业还拥有行政许可34个。
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